二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9266097 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD是为高性能薄膜沉积应用而设计制造的先进物理气相沉积（PVD）反应器。该设备可实现非常精确的薄膜增长,包括一系列功能,旨在保持精确度和可重复性,同时提供高生产率和生产产量。AMAT Centura PVD的特点是有一个单独的工艺室，在其中发生薄膜沉积，真空环境用于维持工艺纯度，以及一组基于运动的硬件组件，用于基本材料运输和底物意图操纵。该系统高度自动化，包括一整套传感器、自动化过程和控制沉积过程的计算机控制系统。机柜集成式电脑提供全方位的控件和单元参数，并提供背面软件包，方便连接和控制。APPLIED MATERIALS Centura PVD机包括原子层沉积（ALD）和脉冲激光沉积（PLD）等高级沉积过程。ALD可以形成薄薄的材料层，而PLD用于钢、非合金金属和合金的生长。该室配有一个用于介质辅助沉积的进入窗口，允许将来自外部环境的目标材料引入加工室。该工艺用于金属、陶瓷和聚合物的快速沉积以及溅射蚀刻操作。Centura PVD工具配备了多种气体和氧气入口能力，用于将特定气体引入工艺室。这样可以优化基板表面的化学性质和稳定性。能够监测和控制室内温度、压力和气体溷合,使材料的增长能够满足客户的特定要求。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura PVD还具有多种高级诊断功能,可确保可重现的过程结果。这包括原位和异位诊断工具的广泛组合，可精确控制生长过程和基质形态控制。资产还具有全方位的安全系统，如自动关机，以保护设备免受损坏或事故。AMAT Centura PVD模型为各种薄膜沉积应用提供了先进的高性能平台。其强大的设备组件、自动化过程、高级诊断和安全功能,以及复杂的定制功能,使其成为满足各种研究和生产需求的理想系统。