二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura PVD #9266535 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura PVD是专门为生产先进电子设备而设计的物理气相沉积（PVD）设备。该系统的构建是为了在单个腔室中提供多种处理功能,某些型号具有五个或更多配置选项。它是由沉积源和主室组成的集成反应堆单元。AMAT Centura PVD机的主室是真空工具，用于将样品晶片放入资产中。腔室保持在基压，以允许来自源晶片的物料均匀流动。腔室还包括一个用于为模型元素供电的电馈通，如电子束源、灯丝和卡盘。应用材料Centura PVD设备由广泛的沉积源提供动力。最好包括电子束源，从灯丝中获取激光能量并将其沉积到晶圆表面上。电子束可以调整以改变沉积材料的穿透深度和选择性。二次沉积源，包括电阻源和射频源，可用于产生多层沉积。基板通过安装在电子机械臂上的真空卡盘牢固地固定在系统中。这使得卡盘在操作周期中的运动以及操作之间的手动定位成为可能。此外，卡盘还配有一个离子计，它能准确地读出腔室压力，以确保在整个沉积过程中具有很高的稳定性。最后,Centura PVD单元的各种来源和组件得到了一系列控制软件选项和命令的补充。这包括用于增强对计算机控制的高级用户界面系统、用于监视流程参数的选项以及从一个远程界面操作多个系统的能力。总体而言,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura PVD工具是适用于各种生产环境的综合资产。该模型允许一系列不同的沉积过程，确保生产的质量和准确性。此外,借助可定制的控制软件和高级源代码选项,用户可以更好地控制其流程。