二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Radiance #9094639 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance是目前最先进的等离子体蚀刻系统之一。它是为半导体器件的超高纵横比制造商设计的蚀刻反应器。反应堆是一种用途非常广泛的工具，提供单一和多室配置以及各种蚀刻工艺。该设备能够以适度的蚀刻速率实现低于100纳米的分辨率。AMAT Centura Radiance反应堆配备了几个特点，让腔室以广泛的蚀刻化学和蚀刻方法执行。电子回旋共振（ECR）技术产生极均匀的等离子体，而光束辅助沉积（一种根本性的新技术）则确保所有沉积在腔内的材料都处于极均匀的厚度。应用材料Centura Radiance反应堆的工作原理是将气体等离子体引入室内，创造一个通电的高反应性环境。然后将这种气体等离子体用于蚀刻过程，溶解被蚀刻的材料以达到所需的轮廓。反应性离子蚀刻允许操作员使用多次通道控制蚀刻深度和轮廓，高能等离子体增加蚀刻速率。这也使用户能够为每个应用程序选择适当的蚀刻速率。凭借其先进的特点，Centura Radiance反应器可用于广泛的蚀刻应用，从高长宽比的模具金属互连到用于光学测试的纳米结构。该系统在高介电常数（k）蚀刻和MEMS制造中也有应用。Core AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Radiance蚀刻单元由四个独立组件组成：易于使用的前端接口、坚固的真空机、独特的石英蚀刻室和智能、高精度的控制工具。这种组件组合为蚀刻应用程序创建了一个强大的平台。高性能光谱仪、高分辨率数字光学资产、化学分析能力也被用于控制和监控蚀刻过程。AMAT Centura Radiance提供可靠的、可重复的蚀刻结果,具有广泛的蚀刻化学特性。无论是单面蚀刻还是双面蚀刻、高长宽比还是高工艺均匀性、全晶片蚀刻或线型蚀刻,APPLIED MATERIALS Centura Radiance都能满足具有挑战性的蚀刻要求。这种蚀刻反应堆是开发高性能半导体器件的有力工具。