二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP XE #9188733 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP XE是一种多任务反应性离子蚀刻（RIE）反应器，设计用于高纵横比微机械加工和蚀刻应用。反应堆由感应耦合等离子体（ICP）源、磁控管溅射电源、过程控制面板和过程室组成。ICP源产生等离子体，除独立控制所有RF源外，还包括一个由RF发生器供电直至400kHz的谐振器。双频磁控管溅射源由一个平面和一个圆柱形磁控管组成，能够为每一个磁控管提供高达200W的功率。使用双频率允许沉积厚度均匀的层。过程控制面板由高速计算机供电，包括实时参数反馈的图形用户界面。这使得复杂的工艺配方易于设计和修改。该面板还允许操作员监视和控制蚀刻过程,包括设置所需的蚀刻速率、蚀刻选择性、蚀刻均匀性、沉积速率和工艺配方。该工艺室采用耐化学、高温静电持晶片支撑，确保整个晶片边缘均匀蚀刻。该工艺室还具有先进的周边气体分配板，用于分配工艺气体，以实现定向控制的蚀刻性能。这允许对高纵横比特征进行浅蚀刻。除了增强的工艺性能外,AMAT Centura RTP XE还提供了改进的工艺稳定性和可靠性。它有一个集成的温度控制系统，提供一个精确的温度设置在腔壁，确保更一致的蚀刻结果。结合这些功能,操作员可以实现高产生产一致性,同时减少工艺时间和成本。