二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura RTP #9390840 待售

AMAT Centura系列反应性离子蚀刻（RTP）工具是一种多功能、高性能的双室反应堆，设计用于半导体行业的深亚微米工艺。它配备了超高真空（UHV）腔室，允许输送超纯蚀刻气体溷合物，以优化工艺性能和可重复性。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP工具使用等离子体反应器，该等离子体反应器产生和控制等离子体以精确蚀刻各种材料。等离子体由高频电源结合合适的气体溷合物产生，产生所需的产物形态。该工具利用平面感应源来控制等离子体的能量，从而产生优越的蚀刻速率和选择性性能。这样可以有效地利用能源和缩短加工周期时间,提高产品产量并降低成本。AMAT Centura RTP还具有最先进的过程控制功能,如自动压力和流量控制,可实现高度的可重复性和过程鲁棒性。APPLIED MATERIALS Centura RTP配备了可伸缩晶圆处理设备，设计用于在加工过程中与工艺室隔离，从而提高了可重复性和产量。该工具用于深亚微米加工，耐受介电蚀刻速率和材料选择性。其双腔室设计允许铝金属和聚硅层的分离处理。Centura RTP具有极高的吞吐量,可提供多种配置,以满足不同生产需求。该系统具有手动和自动远程等离子体清洗（RPC）功能。RPC单元用于在加工室内时清洁晶片表面，防止颗粒在蚀刻过程中粘附在晶片上。RPC机还防止了室壁上有机材料的堆积，减少了频繁维护的需要。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura RTP是一种多功能工具,具有极好的选择性-蚀刻速率比。其高性能特性，如RPC功能，使其成为半导体行业深亚微米工艺的首选蚀刻工具。该资产专为高吞吐量、可重复性和可靠性而设计,使其成为蚀刻过程的经济高效选择。