二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura TAO #9230336 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura TAO(热原子层氧气)反应器是一种半大气工艺工具,旨在为先进材料行业提供高性能、低成本的沉积技术。AMAT Centura TAO反应堆能够实现对沉积过程的高度控制,允许沉积参数的精确重复性。这使其成为专注于半导体、纳米级材料和光电应用的行业的理想选择。该反应器的设计基于热处理,提高了工艺的均匀性和可重复性。在工艺层面,反应堆的作用就像一个熔炉,允许沉积发生在分子层面,而不需要液相沉积过程。反应堆设计的灵活性允许一系列的工艺选择,如氧化、扩散和介电层。APPLIED MATERIALS Centura TAO的反应室位于一个孤立的真空环境,温度控制和压力控制。这样可以确保输出质量和吞吐量一致且可重复。反应堆采用两步法,将化学气相沉积(CVD)与原子层沉积(ALD)相结合。第一步,在真空中释放前体分子,在要沉积的材料上形成薄膜。第二步,底物再暴露在含氧等离子体中,从而进一步修饰薄膜。这两步过程允许定制和微调沉积层的特性。Centura TAO反应堆也以易于使用、需要最少的维护以及产生最少的废物而闻名。它能够以最高的效率实现最高的沉积质量,使其非常适合所有类型的先进材料应用。反应堆的温度和压力控制允许对沉积层的微观结构进行精确控制,使客户能够根据特殊细节定制其产品。最后,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura TAO是一种可靠、高性能的半大气工艺工具,使客户能够精确地再现其沉积参数,用于先进的材料应用。它的两步过程和精确的温压控制为用户提供了最高质量和最高的沉积效率。凭借所有这些功能和优势,AMAT Centura TAO绝对是业界任何人都必须具备的工具。
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