二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD #9036577 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD是为大规模生产而设计的高密度等离子体（HDP）化学气相沉积（CVD）反应器。该设备的沉积速度比传统的CVD反应堆快10倍，从而实现了高通量生产。系统的工艺室配有一套工艺控制单元（PCU），嵌入到工艺室的墙壁中，这有助于促进和监测工艺。PCU有助于在整个等离子体增强化学气相沉积过程中保持沉积均匀性和过程控制。该工艺室装有两个平行的等离子体电极，以帮助维持反应物种的均匀均匀分布。AMAT Centura Ultima HDP CVD单元还配备了一台现场监控机,可提供对该过程的准确和即时读数。该工具具有用于控制压力和温度的双丝加载资产。它还为反应性中间体的形成和测量提供自动化支持。该反应堆还具有独特的原位温度和压力剖面控制功能，旨在提供最高程度的过程可控性。该模型允许在沉积过程中对工艺室内的条件进行微调，以实现均匀性和增强性能。此外，这些设备还建立了监测和反馈系统，便于进一步优化。APPLICED MATERIALS Centura Ultima HDP CVD系统设计得非常可靠,可与多种材料兼容,包括金属、电介质、聚合物、有机物及其组合。该单位预期寿命长，能够工作数千小时。总体而言,Centura Ultima HDP CVD机器提供了卓越的沉积均匀性、高速沉积和过程控制。它是一种高效可靠的CVD沉积方法，能够满足高通量生产的需要。