二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP #9176603 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP
ID: 9176603
晶圆大小: 12"
CVD System, 12" Includes: SIP Ta Chamber CU Chamber Preclean chamber.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima HDP是一种多室先进的工艺反应堆,旨在满足现代半导体制造环境的需求。该反应堆旨在提供高通量,具有先进的化学气相沉积(CVD)能力和丰富的自动化选项。该设备专为快速吞吐量而设计,坡度速率高达10,000 °C/分钟,能够在低内部压力下达到高达10 Torr的压力,从而确保清洁的工艺环境。AMAT Centura Ultima HDP具有可持久构建的组件,包括碳化硅壁和最新的石英晶体谐振器技术,提供了工艺参数的可靠性和可重复性。APPLIED MATERIALS CENTURA ULTIMA+HDP为化学家和工程师提供了过程的灵活性,提供了一系列可从液晶触摸屏操作的可调参数。该设备使工程师能够完全控制CVD工艺,使他们能够为每个腔室设置不同的压力和温度剖面,并提供脉冲射频选项,以提高步速和沉积均匀性。该系统设计用于氧化物、氮化物和硅基薄膜的沉积,非常适合生产复杂的半导体基元件。CENTURA ULTIMA+HDP还具有先进的气体输送装置,提供精确的气体流量控制,能够为每种气体设置不同的温度,以确保可重复性和一致性。该机器还具有多种安全功能,包括热传感器和超压减压,确保气体释放时的安全。Centura Ultima HDP提供了前沿沉积功能,使工程师能够生产高质量的组件,并具有当今半导体设备所需的一致性和可重复性。
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