二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus #9046180 待售
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已售出
ID: 9046180
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
CVD, 8"
Main body:
3-Chamber
Signal tower: 3-Color
Door interlock sensor
Wafer OF type: Falt type
Process chamber:
Dome heater cooling type
Ceramic ESC: WTM
Top mount remote plasma
Generator type: ENI
Local match box
Heat exchanger: SMC
Dual IHC control
Main frame:
Loadlock body: Wide
Wafer sliding sensor
Cool chamber slot: 8-slot
HP Extend robot: One ARM
Gas panel:
Cabinet exhaust: Top
Single line drop
Gas line feed: Top
Monitor:
Third: Station
Maint: Others
Missing parts or Detaching parts list:
(3) Gas ring 0010-02616
(2) Silt valve plate 0010-20021
(1) TGV trottle valve 0020-12521
(1) RPS Al GAS line 0050-46867
(2) Ceramic dome 0200-18062
(3) TGV sol v/v ass'y 3870-01649
(1) Cold loop flow sensor
(1) NF3 MFC (2L)
(1) Top Ar MFC (50 sccm)
Packing list:
Main system
Power AC rack
Rf generator rack(eto)_1
Rf generator rack(eto)_2
Rf generator rack(eto)_3
Rf generator rack(eto)_4
Rf generator rack(eto)_5
SMC chiller
Monitor
Currently installed
1999 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus是一种功能强大、全自动、高通量的化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于生产聚焦、高质量的薄膜。该设备采用最新的CVD技术,用于各种材料的沉积,包括纤薄电介质、半导体和金属表面。该系统采用最新的过程控制方法，如先进的气体和温度控制，以最大限度地提高吞吐量，提高生产率和可重复性。此外,该单元还能够生产各种新型纳米结构和微观结构,从而实现新的设备体系结构。机器的核心是一个创新的多区CVD反应堆，一个三室设计，单个大批量室。这种腔室使各种材料的沉积高度均匀，分布范围广泛，从3"到8"不等。该工具还能够处理各种沉积配方，包括粉末和PLD来源的前体，以改进工艺控制。通过先进的气体输送系统和快速晶圆旋转，进一步优化了沉积速率。AMAT Centura Ultima Plus还能够进行高度精确的厚度控制和复杂的结构形成,从CMCVD特征到图案化电线。APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus还具有自动晶片装卸功能,具有先进的氮气净化资产,确保了避免晶片污染的超清洁环境。此外，该模型采用先进的光学设备对工艺条件进行实时监测。安装单个Centura Ultima Plus每天可处理数千个晶圆,并通过实施先进的排气处理和回收系统最大限度地提高产量。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima Plus是生产聚焦高质量薄膜、纳米和微观结构的理想系统，也是处理材料复合材料和纳米颗粒应用的最佳选择。该设备在广泛的生产环境中表现出色,其自动化功能最大限度地提高了过程速度和统一性,同时为您的生产线提供了价值。
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