二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE #116326 待售
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ID: 116326
晶圆大小: 8"
优质的: 1998
CVD-HDP system, 8"
Wafer shape: SNNF
SMIF: no
Chamber A: Ultima TE
Chamber B: Ultima STD
Chamber E: MS cool
Chamber F: orienter
Load lock type: wide body
Chamber A:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 4 hole ALN
Turbo pump: STP-XH 2603P
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: Top Mount RPS AE
ESC: without WTM
Chamber B:
Nozzle: Side 24 ALN
Top baffle: 1 hole ALN
Turbo pump: ET1600WS
Dual independent He Control: Standard 10/10 Torr
Clean method: microwave
ESC: without WTM
Electrical:
Line frequency: 50/60Hz
Line voltage: 200/208V
Line amperage: 320A
Facility UPS interface: yes
GFCI: 100MA
System monitor:
1st: TTW
2nd: stand alone
3rd: yes
Mainframe:
System placement: TTW
Robot type: extended HP robot
Robot blade: ceramic
Load lock wafer mapping: enhanced
Load lock slippage sensor: yes
N2 purge type: STEC 4400M
Generator rack:
ETO 80-S09-uW
ENI AM200
Ch. A: Top / side / bias
Ch. B: Top / side / bias
(2) Heat exchangers:
1: SMC
2: AMAT 1
Umbilicals: 55ft
Dry pumps:
Chamber A: under cleaning
Chamber B: under cleaning
Load lock
Transfer
Gas delivery option:
VALVES: FUJIKIN 5 Ra max.
Filters: Pall
Transducers: MKS with display
Regulators: VeriFlo
Single line drop (SLD): yes
SLD gas lines feed: top
System cabinet exhaust: top
Gas pane configuration:
Chamber A:
O2 500sccm UNIT 8161
AR 300sccm HORIBAR
SiH4 200sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
SiH4 50sccm STEC 7400
H2 1slm STEC 7400
HE 400sccm STEC 7400
AR 1slm STEC 7400
NF3 2lm UNIT 8161
Chamber 4:
O2 400sccm STEC 7440
AR 300sccm STEC 7440
SiH4 200sccm HORIBAR
50%PH3/SiH4 200sccm STEC 7440
AR 50sccm STEC 7440
SiH4 20sccm STEC 7440
50%PH3/SiH4 20sccm STEC 7440
NF3 2slm HORIBAR
AR 2slm STEC 7440
O2 not shown
1998 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE （Tri-Energy）是一种半导体加工反应堆，设计用于半导体材料的沉积。反应堆具有独特的Tri-Energy （TE）设备，提供高通量，同时保持高水平的工艺均匀性。三级加热系统提供比以往任何时候都更高的准确性和可重复性，使产量和可靠性达到最高水平。AMAT Centura Ultima TE具有超高温沉积能力。它使用射频（RF）单元，用感应、对流和辐射加热的精确定制组合来加热晶圆。这使反应堆能够处理高温过程中使用的挥发性和反应性材料，并获得具有优越电和热特性的沉积层。此外，反应器还具有独特的双模惰性衬里，可保护元件免受沉积副产物和残留物的影响。APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE还附带内置硬件和软件,使过程更加轻松和精确。TE机利用板载直观的触摸屏控制器,用户可以快速准确地执行各种沉积步骤。此外，TE工具能够与其他仪器和系统接口，为用户提供对整个过程的精确控制。反应堆配有多种选择，使其成为实验室或生产现场的多功能和强大工具。它可以配置为处理一系列层增长和沉积速度,从超快到缓慢和稳定。此外，其广泛的温度控制和高质量的涂层支持多种材料系统和工艺，如氢终止金刚石（HTD）、溶液生长模板（SGT）和原子层沉积（ALD）。Centura Ultima TE是一个先进的反应堆，为半导体工业提供卓越的性能和优异的效果。其先进的加热资产保证了高工艺均匀性和产量。它与其他系统的接口允许对整个过程进行精确控制。其各种材料沉积选项使其具有处理各种沉积应用的多功能性和能力。此外，其直观的触摸屏控制器和双模惰性衬里使其成为可靠安全的工具。所有这些特性结合在一起，使得AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima TE成为半导体加工反应堆的首选。
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