二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #116359 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X反应堆是为高性能材料沉积和处理而设计的专用工具。该反应器设计用于广泛的半导体制造应用，包括场效应晶体管（FET）的制造和薄膜的沉积。与传统沉积系统相比，Ultima X提供了许多优点，包括更高的吞吐量和更小的特征尺寸。Ultima X反应堆是一种垂直、不受束缚的工具，意味着整个腔室安装在单个基板上，以尽量减少污染。它具有两个独立的蚀刻/沉积工艺室，包括一个大功率等离子体增强化学气相沉积（PECVD）室和一个低电阻物理气相沉积（PVD）室，提供了在每个腔室中单独控制工艺条件的能力。例如，PECVD室的最高温度范围为350至600摄氏度，过程气体压力范围为16至300托尔。PVD室的温度高达400摄氏度，过程气体压力为1至10托。Ultima X还有一个负载锁定设备，可以在不暴露于环境空气的情况下处理基板（通常是硅片）。这样可以确保基材在进入加工室之前受到的污染最小。此外，Ultima X支持先进的光刻技术，如双曝光光刻，以及晶圆定向感测，用于启用步进和重复的工艺模式。除了提供卓越的性能外,Ultima X系统还提供了一系列安全功能,例如,在发生过程错误时自动关闭紧急设备,以及一台压力监控机器,该机器可防止刀具在特定过程参数之外运行。主室表面还有一个集成钝化资产，这有助于减少粒子或残留物的机会。最后，AMAT Centura Ultima X反应器是为高性能半导体制造而设计的先进工具。由于其先进的蚀刻和沉积过程,它提供了比许多其他系统更高的吞吐量和更小的功能大小。它还具有几个安全特性，确保以安全和受控的方式运作。