二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X #9220219 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima X
已售出
ID: 9220219
CVD System, 12" Mainframe: Centura ACP (2) PSG Chambers Components: (2) RF Generator racks AC Rack (2) SMC HX FI Missing parts: (2) ESC, P/N: 0040-48594 (2) BIAS Matches, P/N: 1110-00056 (2) RPS, P/N: 0190-24886 (2) Turbo pumps, P/N: 3620-00376 (2) Turbo controllers, P/N: 3620-00377 (2) Domes, P/N: 0200-01347 (2) WTM Probes, P/N: 1150-01028 (2) Throttle valves, P/N: 0010-29980 FE Server, P/N: 0090-04434 FI Server, P/N: 0090-04332 RT server, P/N: 0090-04468 Buffer robot driver, P/N: 0090-01972 UPS, P/N: 0190-22273 Currently warehoused 2007 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor是为半导体工业中的大体积沉积和蚀刻应用而设计的最先进的加工设备。它具有集成在紧凑系统中的大面积热处理室,可提供更高的吞吐量和更高的成本效率。这种工业领先、集成的反应堆装置在先进的工艺技术中提供了最高的统一性、吞吐量和产量。AMAT Centura Ultima X Reactor machine features a larg-care-ther process chamber meases 15-x-15x-2 inch.与传统的反应堆相比,该工艺室设计用于处理大型晶片基板,允许更高的吞吐量。在严酷和低温沉积及蚀刻过程中对其进行了优化。该腔室配有一个快速的样品装卸端口,可以使样品快速周转,同时将晶片保持在安全和受控的环境中。该工具还具有多种技术,包括精度为0.1°C的独立腔室温度控制、高速频率切换设计和电容式压力控制阀。此外,该工艺室可配置多达八个气体输入,提供了满足各种工艺要求的灵活性。APPLICED MATERIALS Centura Ultima X Reactor的设计提供高质量的沉积和蚀刻处理,具有极好的均匀性和吞吐量。其先进的Multi-Etch技术可显着改善沉积和蚀刻均匀性,同时减少热预算。该处理资产非常适合要求高吞吐量生产的高级半导体工艺。它还配置了许多安全功能,如超压、样品旋转和底部隔离,以帮助降低污染风险。除了反应堆先进的性能能力外,还附带了方便的自动化包。此软件包包括灵活、用户友好的直观图形用户界面(GUI)和流程配方,可针对用户的特定需求定制广泛的诊断程序。Centura Ultima X还提供多种诊断和计量工具。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima X Reactor是一种功能强大且可靠的型号,非常适合先进半导体市场的工艺需求。其紧凑的设计、先进的技术和易用性使其成为许多行业的热门选择。AMAT Centura Ultima X Reactor凭借其创新的热设计、弹性性能和经济高效的生产,是高质量工艺一致性和吞吐量的终极解决方桉。
还没有评论