二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura Ultima+ #9230338 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima+是一种先进的等离子体增强化学气相沉积（PECVD）反应器，用于薄膜沉积。该设备采用先进的中篇小说双频Generation4等离子体源，能够精确控制沉积温度，以沉积低至0.3 um厚的均匀层。反应堆还能够处理介电半导体和导电金属，以创建低k介电互连或金属接触屏障。AMAT Centura Ultima+采用了专有的双区域感应线圈设计，为其75 MHz和13.56 MHz射频源供电。这样可以改善层的均匀性和吞吐量,从而提高产量和更好的产量控制。它的多瓣磁力射频线圈提供了等离子体在整个腔室中的出色复制，以获得更高的温度和层均匀性，从而使材料更好地转移到基板中。该系统采用适当的Novellus Scrub和Drytube技术来确保高质量、无缺陷的薄膜沉积。磨砂工艺使用多个低压氮气管的级联阵列，在下一个工艺步骤之前从基板表面清除所有等离子体副产物和污染物。干管技术使工艺气体和基板温度保持一致，从而确保了高质量的沉积。APPLIED MATERIALS Centura Ultima+还具有集成的端站模块,允许配方编写、可编程计量和可调节的用户界面选项,以实现最大程度的流程优化。其先进的材料处理单元使基板能够在反应堆腔内不间断地连续移动和旋转，从而实现高通量生产。除先进的沉积技术外，Centura Ultima+反应堆还包含一台高分辨率成像机，允许精确、易于理解的过程实时图像。此工具还支持流程优化,为直接监控和洞察流程性能提供了强大的工具。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Ultima+等离子体增强化学气相沉积反应器为各种设备应用提供了生产高质量、均匀薄膜层的先进技术。其先进的沉积和材料处理技术结合了集成的用户界面、成像和计量能力，为高通量生产优质薄膜层提供了理想的资产。