二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #293805111 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一种化学气相沉积（CVD）工具,设计用于将经过化学处理的材料植入多种特征结构中。AMAT Centura WCVD是一种灵活、高度可靠的设备,可提供出色的性能,功能极为通用。APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD由一个温度可调节的外壳、一个气体歧管、固定晶片级和吊钩平台以及自动晶片放置和处理组件、过程反应器、腔室压力控制系统和脉冲压力调节器组成。该系统允许多层沉积，同时保持均匀性的严格公差。Centura WCVD有一个六十位的晶片盒，允许批次连续处理，最多216个晶片。真空技术如"闪光填充"被用于晶片卸载和加载，从而最大程度地减少对晶片的损坏。此外，应用材料Centura WCVD具备双炉区能力，支持温度不同的多炉作业。CENTURA WCVD的反应堆由多种工艺气体、等离子体和排气管提供动力。反应堆由石英室、底板和隔热罩组成。反应性气体通过反应堆的底板引入，被射频或微波能量激发或电离。能量和气体相互反应生成一种化学反应，所需的物质从中沉积在底物上。AMAT CENTURA WCVD使用多种热源，以确保材料加工的均匀性。使用的热源有多种，如气体、射频和微波频率。腔室加热到高温，材料在这些温度下沉积，以确保均匀性和所需的功能。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD还包括压力控制系统，用于控制腔室内的温度和压力，以确保物料的最佳层。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD提供出色的均匀性、高吞吐量和卓越的薄膜质量。它是多种材料沉积的理想选择，如多晶硅、钨、介电层、氮化物、金属以及其他用于先进集成电路系统的材料。