二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116535 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD （Wet Chemical Vapor Deposition）反应器是一种用途广泛的高性能工具,专为各种湿式化学气相沉积工艺而设计。这种腔室式设备为生产功能性和器件级薄膜提供了性能、多功能性和成本节约。广泛应用于半导体工业中，用于原子层沉积、化学气相沉积、化学机械抛光等应用。反应堆设计为在高达1000 °C的温度下运行，可调压力范围为0.01-2.1 torr。该反应器能够进行多室运行，以扩大过程吞吐量。该室由不锈钢构成，结合了多个加热器和冷却器的系统，用于精确的温度控制和稳定性。该单元提供了广泛的工艺能力，如成分载荷、反应物注入以及添加剂和减法工艺。它们非常适合将多层薄膜沉积到特定厚度的基板上,如晶圆、玻璃或塑料。该室还设有一个专有的"动态压力控制"，允许精确的压力控制。AMAT Centura WCVD可与干衬里、气泡、输送机和基板支架等其他工艺模块结合使用，以提高沉积效率。该机还包括一个大型液晶显示屏，便于编程、数据存储和过程监控。可选的"Smart Air and Gas Control"允许用户预编程相同配方的多次运行，以确保过程结果的可重复性。此外,通过精确调整设置和成分加载,APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD提供了高重复性和过程稳定性。这反过来又允许高产量的所需薄膜，使其成为制造元件和设备的理想选择。因此，它适用于一系列行业，包括汽车、航空航天、医疗、通信和电子。总体而言,APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一种用途广泛、经济实惠的沉积工具,具有广泛的功能,适用于各种应用程序。该资产具有高精度、重复性和可扩展性,可提供可靠的性能,并为各种产品提供优质薄膜。