二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116738 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是晶圆制造过程中使用的一种化学气相沉积（CVD）反应器。Centura是一种低压、高温的化学气相沉积系统，用于在晶圆上产生二氧化硅（SiO2）表面。WCVD代表湿化学气相沉积，因为水是在过程中使用。反应堆的腔室由不锈钢构成，设计最多可容纳12个300毫米晶圆和17个200毫米晶圆或迷你基板。该过程发生在高温热区，温度高达900 °C。压缩空气用于提供载气，以协助蒸气升华和活性化学物质通过腔室运输。在过程开始时，晶片被装入腔内。然后，用真空泵将反应器排空，将腔室加热。然后将水加热成蒸气形式，在室内与氧气和氮气溷合。这就产生了碳氢化合物氧化剂。这些碳氢化合物氧化剂与加热的晶片较大的表面积发生反应，导致形成均匀致密的氧化层。沉积的SiO2层具有很高的保形性，可以容纳平坦结构和阶梯式结构。这样可以实现更好的表面积接触,从而实现更好的阶跃覆盖和高产率。沉积层的厚度由反应物的流量和压力精确控制。最后，一旦过程完成，晶片就从腔室中卸下。AMAT Centura WCVD是一种可靠、精确的CVD反应器，广泛应用于介电过程、氮化物膜、金属膜、屏障膜以及在栅极接触处等过程。它是晶片制造和工艺技术中至关重要的设备，能够快速、安全地提供均匀、致密的SiO2层。