二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116739 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD（化学气相沉积）反应器是一种通用的半导体器件制造工具,可实现高级3D功能。用于沉积多种薄膜材料，包括多晶硅、Si3N4、SiO2等掺杂和非掺杂电介质。该工具通过使用载气将两种或两种以上原料的气体溷合物送入腔室，然后将其加热到预定温度和压力，从而产生化学反应。该反应产生反应产物，然后沉积在一层薄薄的底物上，如硅片。AMAT Centura WCVD反应堆配备了多种不同的技术和配置，让用户能够根据自己所期望的要求调整工艺。这包括可调反应物浓度、可调基板温度、可调加热器功率、可调压力、可调停留时间、可调腔室几何形状。这些特性可以精确控制反应物，确保沉积性能一致和可重复。此外，APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD反应器配有一个全面的温度控制和诊断包，其中包括对基板和沉积室的温度监测。这进一步帮助操作员提供有关工具及其工艺条件的实时反馈。APPLIED MATERIALS Centura WCVD反应器采用的化学气相沉积技术具有很高的可靠性和可重复性。它能够产生极为均匀和光滑的表面，非常适合铜互连、通硅通气、MEMS/NEMS、射频和模拟IC、光学器件和MEMS/3D晶体管等先进应用。此外，Centura WCVD反应堆提供高热效率和低气体使用量，使其既经济高效又环保。总体而言，CENTURA WCVD反应堆提供先进可靠的化学气相沉积溶液。它能够产生极均匀和低缺陷的表面，非常适合制造先进的半导体器件。该工具的可调配置选项、全面的温度控制和诊断包以及高热效率使操作员能够生产出经济高效、可重复、可靠的产品。