二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116740 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一种反应堆设备，设计用于将绝缘材料薄膜沉积在晶圆上。它采用低压化学气相沉积（LPCVD）工艺沉积氮化硅、二氧化硅和磷硅酸盐玻璃（PSG）的薄膜。该系统还能生产多晶硅膜，可用于栅极和互连沉积，以及各层掺杂。AMAT Centura WCVD由两个主要组件组成：工艺室和控制器。该工艺室由一个不锈钢真空室和一个8英寸晶圆装卸座组成。真空室的内表面有静电屏蔽衬里，为晶片提供额外的电荷粒子保护。室内有几种工艺气体，一个辉光放电源，一个感光器和一个高温过滤器。磁感器在沉积过程中将晶片固定在适当的位置,并可以加热到最高温度1100 °C。辉光放电源用于分解前体气体。控制器是用户与进程室之间的接口。它与加工室相连，用于操作单元。它允许用户设置各种工艺参数，如气体流速、晶圆温度、等离子体密度等。控制器还提供腔室压力、气体流量、温度等工艺数据的读数。APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD机器设计为以手动或半自动模式运行。在手动模式下,用户可以完全控制沉积过程。这种模式使沉积参数的调整具有最大的灵活性。在半自动模式下，工具会根据预编程的配方自动调整其参数。这种模式需要较少的用户监督，并允许更统一的沉积膜。CENTURA WCVD资产是绝缘膜低压化学气相沉积的高效可靠平台。它能够生产高质量和均匀性的薄膜，同时在工艺参数和操作模式上提供多功能性。这使得它成为各种应用的理想选择，从MEMS到太阳能电池和半导体。