二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116741 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD （CVD）沉积反应堆彻底改变了半导体工业。这种反应器是为金属和介电材料沉积在基板上而设计的，在各种各样的过程中。这是通过产生高温反应环境，将高质量的薄膜和化合物沉积到表面上来完成的。利用AMAT Centura WCVD反应器的主要优点是能够提高沉积速率，提高薄膜的温度均匀性和一致性，减少颗粒污染。APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD配备了四盏高频石英卤素灯，在保持温度分布均匀、交叉污染最小、颗粒排放低的同时，达到最佳沉积速率。它还具有高流量预溷合气喷射器，以提高沉积速率的均匀性。这种气体输送方法更可靠，防止样品上产生热点。此外，该系统还包括一个用于稳定基板温度分布、减少热过载和提高工艺结果准确性的热稳定室。AMAT/应用材料CENTURA WCVD反应器在VLSI电路和光学材料的制造上效率很高。它能够使复杂合金的薄膜生长，以及聚合物和低介电常数涂层的沉积。此外，Centura WCVD反应堆可用于CVD封装、屏障层、光阻沉积和介电层沉积。AMAT CENTURA WCVD反应堆是单晶硅晶片、介电层、聚酰亚胺、石英等先进材料的理想选择。它具有高达1400 °C的高温操作，用于以纳米级的顺序沉积超薄层。该反应堆旨在提供最大限度的过程均匀性控制。它还具有广泛的温度和停留时间，具有极好的重复性和重复性。应用材料Centura WCVD反应堆将为高端微电子技术的所有工艺应用提供最高的质量和生产力。其提高沉积速率和温度均匀性的能力，同时最大限度地减少了颗粒污染，使其成为半导体工业的理想选择。