二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9116743 待售

AMAT AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD反应堆是一种用于半导体制造过程的最先进的化学气相沉积（CVD）设备。这种先进的CVD系统旨在以比传统CVD系统更高的沉积速率提供更高产量的外延膜。AMAT Centura WCVD反应堆具有多种组分，可以在外延和扩散应用中带来优异的效果。首先，应用材料CENTURA WCVD反应器具有吸热或加热气源分布单元。该机器利用专有技术向刀具的ID和OD圆柱体提供均匀且可重复的气体分布。气体分配资产也为反应堆室提供了精确的均匀性，给出了可重复的结果。此外，AMAT CENTURA WCVD反应堆设有高效加热传递室（HTC）。该腔室提供有效的热控制，并确保将工艺气体均匀注入基片上。HTC还可以减少辐射热能造成的损坏,并在配方步骤之间循环时实现更快的热恢复。此外，CENTURA WCVD反应堆采用了创新的可编程淋浴喷射模型。这种设备能够以可配置的淋浴模式生产工艺气体，从而对沉积过程提供更大的灵活性和控制。另外，可以使用多个单独的喷嘴环来精确控制扩散时间和产生的腔室环境。为了补充淋浴喷射系统，Centura WCVD安装了石英通道电子回旋共振（ECR）源。该单元提供高功率等离子体，用于等离子体增强率，低残余气体和更好的控制膜参数。它还提供了无与伦比的独立控制生长参数如温度和气体化学的能力。最后,应用材料Centura WCVD反应器具有光子固化模块.该模块的设计目的是通过表面晶片在沉积后的紫外线曝光来进一步提高器件性能。这样可以确保晶片更大的均匀性和更好的适应性,以便进一步加工。总体而言，AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD反应堆是生产高质量外延和扩散薄膜的强大而通用的工具。它的高级功能和组件为用户提供了更大的控制、一致性和可重复性,以满足他们的处理需求。