二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9169932 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD （Wet Chemical Vapor Deposition）反应器是一种专门的生产级工具，用于各种先进的材料生长应用。AMAT Centura WCVD反应堆设备能够以高吞吐量实现多种优质薄膜。该系统结合了湿式化学反应物源、热壁管炉、冷却反应室、高效传热单元和高精度温度反馈控制。湿式化学反应物源是为精确稳定的化学气相沉积而设计的。反应物气体，要么是卤化物，要么是元素，通过内部气体进料机输送，然后通过气泡产生受控范围的成核密度。气泡器有一个可更换的惰性加热器，它允许将气泡器的温度设置在所需的范围内，从而导致反应物气体的精确控制流动。应用材料CENTURA WCVD中使用的热壁炉提供了高效可靠的热输入。它使用了一个强铵（Mo）的坩埚来提供均匀的热分布，以及一个高发射率的Mo隔热板来保护反应室不受散热的影响。这些部件共同确保整个炉子保持所需的温度水平。冷却反应室通过提供稳定和隔热的环境，有助于控制膜沉积温度。它采用高级包层金属板制成，具有良好的隔热性能和无漏气密真空密封。此外，它还配备了高效的蒸气去除端口，有助于清除多余的反应物气体并降低沉积温度。Centura WCVD传热工具是为快速高效的薄膜沉积而设计的。它使用连续热壁加热元件来实现最大的传热电位，并使用坚固的热电冷却器来消除静态热负荷。其双区域控制确保整个资产的温度分布均匀,有助于创建一致的薄膜质量,并消除过量热循环的需要。最后,AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA WCVD具有高精度的温度反馈控制模型.这种先进的控制设备可以实时控制薄膜沉积，优化工艺参数，确保高膜质量。结合其高效的传热系统，应用材料Centura WCVD提供了卓越的薄膜沉积效率。