二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9200055 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一种化学气相沉积（CVD）反应器，用于在多种底物上生长材料薄膜。反应堆采用矩形设计，有一个由石英包层和一系列用于反应物气体的进气/排气喷嘴组成的有限深度室。在腔室中，使用电感应热源来影响表面敏感反应。WCVD工艺由多个同时气相反应组成，基板保持在高压和高温。底物暴露于含有薄膜生长所需材料的反应物气体中。这些反应物在室内分解形成沉积物。晶圆温度由石英晶体微平衡测量，可从室温调节至最高1000 °C。WCVD工艺适合于许多半导体材料如硅、的、硅化合物。也用于金属、合金和氧化膜如氮化钛、碳化硼、氮化硅、硅化钛。该工艺还用于沉积有机和陶瓷层如聚氟乙烯（PVDF）。AMAT Centura WCVD工艺的精确度和精确度是非常精确的，因为该工艺的精确度很高。薄膜的均匀性和可重复性非常好，薄膜可控在+/-0.1 nm以内。对于金属和氧化物薄膜的沉积，该工艺的温度稳定性非常重要，WCVD系统在+/-0.1°C的范围内提供了良好的热控制。应用材料CENTURA WCVD工艺是当今最先进的CVD技术之一。与其它CVD方法相比,它提供了更好的过程控制和可重复性。其多功能设计使各种薄膜的沉积具有极好的均匀性和控制性。具有精确的厚度控制和均匀性的薄膜生产能力.这使得WCVD工艺成为各种薄膜应用的理想选择。