二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WCVD #9358216 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WCVD是一种化学气相沉积（CVD）反应器，设计用于大面积半导体晶片的先进生产。反应堆使用氢气、硅烷或甲烷等气体组合，在硅基板顶部合成薄膜层。这些层，通常是二氧化硅或氮化硅，可以用于现代集成电路所需的许多层。该设备采用开放式框架设计，具有独特的气体输送和预调理系统，可进行高温处理和高速运行。这种特性使得层的沉积具有更大的均匀性，这对于创建现代集成电路所需的复杂电路布局至关重要。该单元还包括一个中心温度控制模块，既控制工艺室的温度，也控制进入的气体溷合物。AMAT Centura WCVD反应堆还具有多项安全特性。例如，反应堆是用高温保护来建造的，以确保安全的加工温度得以维持。反应堆还配备了真空泵机器，并有一个超压保护工具，防止反应堆在压力过高的情况下运行。该资产可用于为各种应用处理各种材料。多孔、致密、透明的薄膜都可以用Centura反应堆合成。这些薄膜可用于硅器件的光伏电池、催化剂、层间绝缘等应用。该模型还可用于合成化学品和其他物质的涂层，减少对昂贵的底物处理的需要。应用材料CENTURA WCVD反应堆是一种高效可靠的技术，设计用于生产各种半导体器件。该设备具有高温性能和对沉积参数的严格控制，是电子元件生产的绝佳选择。