二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #293749330 待售

APPLIED MATERIALS Centura WxZ是一种利用深反应性离子蚀刻（DRIE）技术的行星型单晶片均匀蚀刻反应器。这类蚀刻反应器设计用于在单个晶圆上将小特征深度蚀刻成薄膜层。它在等离子体增强型化学气相沉积过程中使用氟基和氯基气体，在各种材料的基板上形成高纵横比轮廓，而不会显着改变材料的底层结构。Centura WxZ能够以高通量速率蚀刻基板,并实现了可以缩短加工时间的优异效果。反应堆配备了可配置范围广泛的卡带尺寸，允许与多个晶片和平台兼容，以及改进的安全性和产率保护。APPLIED MATERIALS Centura WxZ包括一个革命性的设计,它简化了对过程关键组件的访问,并大大减少了整个晶圆蚀刻所需的时间。它的可配置设计还允许与现有的APPLIED MATERIALS系统轻松集成,从而能够更快地升级和跨平台共享系统数据。Centura WxZ采用了多种创新技术,可带来卓越的蚀刻效果。它能够通过使用称为"自对齐侧墙收缩"的特殊特征来产生均匀蚀刻。此功能在均匀蚀刻轮廓中提供完美的侧壁。该反应器还具有定向淋浴头收集器，可实现精确的蚀刻面分离和最小的边缘偏置公差。APPLIED MATERIALS Centura WxZ是用于保持或增强基板初始结构和电气特性的均匀蚀刻过程的理想工具。通过使用高通量速率和均匀蚀刻，Centura WxZ具有高度的通用性，能够满足各种单晶片工艺的要求。反应堆采用的先进设计和创新技术提高了安全性和产品产量保护水平。