二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Centura WxZ #293763999 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS Centura WxZ是一种高度先进的高真空化学气相沉积（HVCVD）反应器,专为提供业界领先的高均匀性薄膜而设计。利用先进的等离子体和热管理技术，该反应器能够生产出质量和均匀性都很好的薄膜。AMAT Centura WxZ的设计基于一个模块化平台，该平台由一个工艺室、一个或多个基板支架、一个气门端口和一个排气系统组成。该工艺室本身由功能强大的50 kHz直接数字合成（DDS）射频电源供电，功率范围高达4.5kW。基板支架设计最多可容纳6个4英寸、5英寸或6英寸晶圆，并具有最先进的高气流设计，以确保晶圆的热管理均匀。阀门允许将工艺种类，如原料引入真空室。内置的高级等离子体管理系统最多支持三（3）个RF、PECVD和ECR源，这为Centura提供了无与伦比的过程均匀性。内置的ECR激发源提供了沉积先进材料如氮化硅、a-SiC： H和类似金刚石的碳的能力。工艺压力范围从0.5 mT到200 mT，具备多区域和软烘焙技术的能力。反应堆上的温度控制系统也非常先进.它支持高达310°C的温度，允许精确的控制和高均匀性的沉积物。此外，先进的PID工艺控制和对工艺参数的监测对沉积工艺进行了精确的控制。此流程控制还允许执行长达8小时的长期流程。应用材料Centura WxZ是用于沉积过程的强大而精确的工具。除了精确的沉积均匀性和过程控制外,Centura还采用了低排放设计,确保了最佳的健康和安全标准。此外,WxZ版本还包括内置的其他气体去除和氧基化涂层特征,可保护底物在沉积过程中免受氧化和腐蚀。所有这些功能确保Centura WxZ是业界最先进、最可靠的反应堆之一。
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