二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #116340 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种为光掩模制造而设计的蚀刻/蚀刻干蚀刻反应器。它旨在提供高蚀刻速率、窄沟槽和金属线形、良好的轮廓控制以及高吞吐量能力。该系统采用了先进的晶圆处理、基板预清洗、蚀刻和后清洗方法。晶片首先安装在盒式磁带带上，然后将其插入加工室。该室配有气体和温度控制，以提供最佳工艺条件。一旦阀门关闭并启动该过程，就会施加功率并产生等离子体蚀刻。在蚀刻过程中，使用蚀刻头来控制沟槽或金属线的宽度和形状。用于制作半导体器件光掩模和层图样的等离子体蚀刻工艺使用气体-溷合物、压力和功率从晶圆中提升图样。第一步是在蚀刻处理前预先清洗晶片表面。预清洗可能包括去除先前工艺中的残留物，去除表面颗粒，调整表面粗糙度。AMAT CENTURA使用开环主动流控制（FLOC）进行精确的蚀刻速率控制,以减少过度蚀刻,并保持精确的目标尺寸。该系统还支持高吞吐量、精确的金属线形状和尺寸控制，以及高蚀刻率。实时监控和控制工艺参数，提供精确的工艺性能。结果是均匀的蚀刻结果、直线和改进的轮廓控制。蚀刻后清洗过程（包括不同的化学浴和洗涤步骤）可以去除蚀刻过程中发生的任何残留物和划痕。后处理步骤允许零件通过定性测试,并为下一个处理步骤做好准备。综上所述，APPLIED MATERIALS CENTURA是一种先进的蚀刻/蚀刻干蚀刻反应器，设计用于制造半导体器件的光掩模和层。它提供精确的蚀刻速率控制、高吞吐量能力以及精确的形状和尺寸控制，以提高产量和工艺效率。系统的预清洁、蚀刻和后清洁步骤确保均匀的蚀刻结果和改进的轮廓控制。