二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293598413 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler是一种最先进的CVD/PECVD反应堆设备，设计用于薄膜沉积在多种基板上。这套先进的系统配备了两个腔室，每个腔室都配有一条单一的工艺气体管线和一对位置耦合的敏感剂/电极组件，允许工艺灵活性和优越的薄膜均匀性。AMAT Centura Enabler利用先进技术提供卓越的一致性、可重复性和精确度。该单元具有可容纳最多两个基板的双区域加工室。过程压力从大气控制到760 torrs不等。该机还具有一系列高效的加工气体，包括Ar、O2、N2、H2、CH4等。此已完成的工具旨在最大程度地提高工艺效率,最大程度地减少热损失,并提供更多的生产正常运行时间。为此，它配备了高功率高温计资产、闭环温度控制器以及用于精确热分割的增强型气体动态分配系统。此外,该模型还预配备有ATC-on-the-Fly （ATCOTF）技术,可在不牺牲吞吐量的情况下提供最佳动态过程控制。在工艺动力学方面，APPLIED MATERIALS Centura Enabler利用了一种增强型（HTE）高温电子束反应室，能够在1300°C下运行。其优越的表面加热和均匀性通过其两个磁化器和两个电极的谐振而得到进一步改善。该设备还具有先进的活性气体管理（AGM）接口,可用于两个室内的先进气体输送和利用。此外,Centura Enabler还在整个薄膜沉积过程中保持出色的温度控制。可以通过为系统配备扫描电子显微镜（SEM）来结合后工艺计量。综上所述,AMAT/APPLICED MATERIALS Centura Enabler提供了许多高级功能和功能,可用于沉积具有非凡均匀性和可重复性的薄膜。此CVD/PECVD单元非常适合需要高精度和过程控制的应用。