二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293628309 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种沉积工具，设计用于大面积基板上外延膜的生长。该室的设计使得离子可以从各个方向植入薄膜中，确保薄膜沉积的均匀性。这种类型的沉积被称为Epitaxy，通常用于在半导体器件中创建超薄和多层结构。AMAT CENTURA反应器可在真空或压力下运行，并针对薄膜沉积过程中的均匀热循环进行优化。它配有一个独特的"多离子源"，能够将不同的薄膜共沉积到基质上。此多离子源利用专门为每个应用程序设计的专有配方。APPLIED MATERIALS CENTURA具有高温、低压的环境,可在类似清洁室的环境中运行。其低粘度、高压、惰性的大气层使得热稳定材料的沉积具有非凡的均匀性。惰性环境确保在薄膜沉积过程中不会引入污染物，从而产生没有任何颗粒状伪影的清脆可靠特征。超高真空（Ultra-High Vacuum，UHV）是CENTURA反应堆的重要组成部分。UHV允许腔室在非常低的压力下工作，允许多层膜的共沉积，并改善在基板上生长的膜的均匀性。此外,特高压还可确保超清洁的增长环境,保护正在构建的设备的完整性。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA由一个现代电源供电,该电源旨在为增强的过程提供极低的温度。电源提供了高度的温度精度,确保了整个基板平面上设计精密的特性和出色的均匀性。AMAT CENTURA可以配置额外的硬件,例如用于晶圆交换周期的负载锁定（LLS）。Load-Lock系统可在沉积室和Load-lock室之间进行快速晶圆交换循环。该系统大大降低了被加工晶片被污染和氧化的机会，有助于提高结果的可重复性。最新版本的APPLIED MATERIALS CENTURA是为满足各种客户需求而量身定制的。新发布的"Intuitive CENTURA Instrumentation"旨在减少学习曲线，帮助用户快速起床。此外，它还具有一个"智能控制器"，用于自动控制沉积参数，可以设置这些参数以优化性能。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA系统是一种功能强大的沉积工具,用于制造功能性高性能半导体器件。它利用精确的沉积系统、惰性环境和精确的温度控制来实现均匀性和可重复性。随着它的不断发展，它肯定仍然是现代半导体工业的重要工具。