二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293649931 待售
网址复制成功!
单击可缩放
ID: 293649931
晶圆大小: 12"
Etcher, 12"
OEM Process
Transfer chamber
(3) Chambers
(2) AC Racks
Loader
Missing parts.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler是一种磁场辅助等离子体物理气相沉积(PVD)反应器,设计用于薄膜沉积。Enabler采用冷壁射频磁控管工艺设计,无需热源,使其能够在较低的加工温度下生产高质量、无缺陷的薄膜。它具有广泛的沉积速率,每个沉积周期可以从几埃到几微米进行处理。AMAT Centura Enabler具有高性能、低功率的射频发电机和紧凑、可调的射频天线盘。高频射频发生器和可调节射频天线盘的组合,可以对物理气相沉积过程进行精确控制,并提供对可用等离子体功率的有效利用。发电机可以产生一系列功率水平,低至几瓦到几百瓦,从而可以精确控制沉积过程。此外,可调节射频天线压板使用户能够根据所沉积的特定材料来调整射频天线的位置和方向。APPLIED MATERIALS Centura Enabler还配备了先进的监控、控制和安全系统,允许用户实时调整流程参数,优化均匀性和可重复性。监测系统还记录各种工艺条件,以便对沉积性能进行详细分析和核实,协助进行故障排除和维护活动。Centura Enabler的先进设计和光学允许广泛的沉积技术,包括化学气相沉积(CVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)和原子层沉积(ALD)。这些技术允许沉积一些技术要求最高的材料,包括金属氧化物、纳米结构碳和高表面能材料。Enabler还可以配备气体输送系统,允许用户在一个过程中溷合和沉积不同的材料。AMAT/APPLIED MATERIALS Centura Enabler是一款用途极为广泛的工具,它提供了广泛的特性和功能,使其能够以可靠和可重复的方式处理某些最先进的材料。通过利用现代等离子体沉积技术,Enabler可以帮助创建当今技术中使用的一些最复杂的材料。
还没有评论