二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #293767050 待售
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AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一系列专门为半导体器件制造而设计的单晶圆化学气相沉积（CVD）反应器。CVD系统提供了一个通用平台,可以配置为执行各种过程,包括沉积、蚀刻和脉冲等离子体沉积。AMAT CENTURA的增强设计提供了同类产品中最高的吞吐量和最低的运营成本。应用材料CENTURA系列CVD反应堆的设计旨在改进单晶圆CVD设备的基本设计。该系统平台提供了可靠且经过验证的设计,适用于各种流程应用程序。CENTURA由几个部件组成，包括一个加热的单晶片敏感器、一个用于反应气体的喷射器和一个真空室。磁感器是沉积过程中支撑和加热晶片的CVD单元的一部分。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA利用一种独特设计的敏感器，配有分布式加热元件，平均加热基板。这种感光器可以达到高达1000 °C的温度，允许更高的沉积速率和更均匀的薄膜质量。气体输送机是用于向工艺室输送反应性气体的机构。AMAT CENTURA利用了一种创新的气体喷射器-称为A-Plume-它由一系列沿加工室长度延伸的同心空心管组成。反应性气体通过这些管子注入，并通过一系列精心设计的挡板进入加工室。A-Plume工具提高了工艺流程的均匀性，提高了沉积速率。工艺室是发生沉积过程的外壳。APPLIED MATERIALS CENTURA利用双铰链升降盖,可在需要时访问感知器。该腔室采用三级抽水设备，利用涡旋和涡轮分子泵。这样可以在相对较短的时间内实现高度真空。CENTURA系列CVD反应堆是半导体器件制造的强大工具。该平台的独特功能提供了可靠、可重复的过程控制和卓越的性能。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA能够对CVD工艺的空间和温度沉积特性实现精确的可控性。这就导致了任何类型的薄膜的高屈服率和低缺陷密度.
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