二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9026986 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是来自AMAT的高通量化学气相沉积（CVD）反应器。它是一种功能齐全的工艺工具，用于低介电层材料的沉积，如SiO2、SiN、SiOCH。CVD工艺的能力不限于SiO2沉积，但也可用于多种其他材料的沉积，如聚Si、聚SiGe、TaN等。AMAT CENTURA反应堆具有直径可达20英寸的大型低真空室。它的两个热区可以独立调整，允许在整个基板上均匀沉积。为最大限度地提高流程吞吐量，最大限度地减少产品循环时间，该设备采用高容量气体分销商设计，用于快速气体溷合和输送。反应堆装有热壁喷射器和冷壁低压CVD源，用于精确固体源CVD。该系统包括一个线性阵列淋浴头，具有高达40个面向射频的端口，这些端口将反应物气体均匀地分布到晶圆/基板表面。该单元还提供各种晶圆/基板传输选项，还包含内部洗涤和清洁系统，允许重复处理，具有极好的可重复性和均匀性。APPLIED MATERIALS CENTURA还配备了一台坚固的数字控制机器。这允许精确、一致地控制反应堆的温度、压力和反应物气体的流速。CENTURA的现场监控提供了准确的现场表征,这对于确保生成的层厚度、均匀性和质量的可重复性至关重要。APPLICED MATERIALS提供了各种附件和功能，以进一步提高反应堆的性能，如盒式到盒式终端效应器（C2C AE），它允许快速、自动地装载和卸载基板，以及装载机、卸载机和泵式过渡模块（LUT）。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA代表了一种可靠而坚固的CVD工艺工具，用于沉积各种低介电层材料。其广泛的工艺功能和模块化配件为用户提供了对涂层工艺的高级控制,并且可以集成到现有模块和体系结构中,而无需进行重大基础架构更改。