二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9072602 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种专门的化学气相沉积（CVD）反应器，为半导体、光伏和显示市场提供晶硅的薄膜沉积。AMAT CENTURA设计用于在高温下沉积薄而保形的硅层，产生具有极好均匀性的结晶硅层。这种半导体制造工艺被用于在硅晶片上产生闸门、互连、晶体管和其他电路器件等特性。应用材料CENTURA反应器能够在350-1,000°C之间达到非常高的温度，具有高真空水平，以沉积具有高均匀性和可靠性的装置。CENTURA是一种低压CVD（LPCVD）工具，是硅沉积的常用方法。这座LPCVD反应堆通过将含硅前体（如硅烷、二氯硅烷或三氯硅烷）和其他反应物送入加热室运行。在反应堆内，反应物分解重组，利用热能形成二氧化硅或氮化硅膜层。反应堆内的温度和压力使得能够形成厚度小于10纳米的高质量结晶硅膜。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA能够在200 mm晶圆基板上实现0.3微米以内的局部均匀性和跨基板的出色均匀性。这种高度的均匀性有助于产生具有高设备产量的电线和其他特性。此外，AMAT CENTURA具有很高的通量，能够快速沉积大量的层，用于太阳能电池、晶体管和其他半导体组件。APPLIED MATERIALS CENTURA的另一个关键特徵是它的超低粒子和粒子。反应堆测量的颗粒尺寸降至0.3微米，大大减少了沉积过程中的颗粒数量，使可靠装置的收率很高，缺陷最小。CENTURA的低颗粒速率也有助于确保产品生命周期的长寿。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA为提供单层和多层沉积提供了高效、统一和高度可靠的制造工艺。这种业界领先的CVD工具使半导体行业的制造商能够实现当今不断缩小的几何形状和设备尺寸所需的高精度和可重复性能。