二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9082524 待售

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AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
已售出
ID: 9082524
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
Etcher, 8" (3) Chambers Chamber types: DPS Metal, ASP, poly 1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反应器是一种高效和精确的物理气相沉积(PVD)工具,旨在提供可靠和可重复的薄膜沉积过程。它是同类中最先进的系统之一,典型地用于半导体工业中,用于沉积材料,如氮化钛、砷化氙和用于装置制造的铝。该设备由四个主要组件组成:等离子体源、感光器、晶圆处理系统和控制器。AMAT CENTURA的等离子体源是300 mm光谱源,能够沉积介电和金属薄膜。它能够产生低压、高频电场,然后电离形成密集的反应物气体等离子体云,用来溅射目标材料,制造薄膜。该单元还与多种气体兼容,包括氮气和氧气,可用于控制薄膜性能。机器的磁感器是一种先进的元件,用于在沉积过程中支撑和加热晶片。它由钼涂层石墨板组成,配有一套独特的加热器和控件,以保证晶片的均匀温度,最大沉积效率。APPLIED MATERIALS CENTURA的晶片处理工具是一个高度自动化的机器人模块,负责将晶片从弹匣装入反应室中,并在薄膜沉积后卸载。它旨在实现晶片的快速、精确的装卸,以优化吞吐量。最后,资产的控制器负责控制PVD过程的各种参数。还用于监测和调节基板温度、气体流量、晶圆位置、射频功率等工艺变量。这样可以确保参数保持在最佳的沉积范围内。总体而言,CENTURA是一种非常先进的薄膜沉积模型,它为设备制造提供了可靠和可重复的薄膜沉积工艺。它配备了多种组件和功能,以确保最大性能、效率和精度。利用其先进的控制器设备,能够控制沉积过程的各种参数,确保优异的效果。
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