二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9098405 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反应器是一种化学气相沉积（CVD）设备，用于将薄膜沉积在半导体工业的晶圆等基板上。该系统能够在广泛的材料中具有较高的沉积速率和均匀性，包括硅、砷、氮化钛以及其他各种金属和氧化物。AMAT CENTURA反应堆的设计目的是通过消除温度控制均匀的"热点"，提供精确的气压控制，并采用低质量的紧密工艺室设计，以更快的热化，从而最大限度地减少热损伤和颗粒。该装置由红外灯或电加热"铰链"元件控制温度，并具有火磁场，以集中和增强过程均匀性。应用材料CENTURA反应器是用高纯度的侵蚀性和化学惰性，以及不锈钢衬里为更好的工艺自动化建造的。该机还采用低颗粒设计，有助于最大限度地降低污染风险，以及包括TEOS洗涤器和催化转化器的排气工具。CENTURA反应堆可编程为单源和双源过程运行，使其适合各种生长速率，包括浅沟隔离、双大马士革、化学机械平面化（CMP）和杀盐工艺。它提供了对压力、温度、过程时间和分子束技术的精确控制，产生了极好的均匀性、密度和线性（斜坡上升和斜坡下降）。除了AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA提供的高性能外,该资产还易于使用。界面允许用户精确控制过程的各个方面，从配方和调度到功率和气体控制，在沉积过程中提供对基板层厚度的精确预测。该型号还具有可扩展性和可升级性，使用户可以根据不断变化的需求轻松调整设备。总体而言,AMAT CENTURA因其独特的设计、卓越的性能和灵活性而成为领先的CVD系统。即使在高沉积速率和高精度的情况下，也能以最小的热损伤产生高质量的结果。由于这些原因，该单元被广泛用于半导体行业的工艺开发、生产和鉴定（QA/QC）测试。