二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9101735 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种高性能、多用途的反应器，设计用于研究和生产先进的半导体薄膜和集成电路。该反应堆由专门从事自动化加工设备和系统的公司AMAT制造。AMAT CENTURA是一种具有四个低压无功气源、高功率微波能量和专有原位测量系统的单晶圆、高密度等离子体处理设备。为了改进工艺集成和晶圆测量,APPLIED MATERIALS CENTURA采用了两个不同的工艺模块,可根据需要轻松更改。第一个模块是低压化学气相沉积单元（LP-CVD）。该模块包含一个感应耦合等离子体源，是合成薄膜和用反应性气体对薄膜进行表面改性的理想选择。第二个模块是等离子体增强化学气相沉积机（PECVD）。该模块用于沉积氧化硅、氮化硅、掺杂的氧化硅等薄膜。CENTURA具有低成本基板传输工具,可减少与晶圆加工相关的昂贵人工。它还包括专有的现场计量设备和环境温度过程监测，提供准确和可靠的测量，可以调整以取得最佳的过程结果。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA还包括一个专利的低阻力废水过滤器，防止危险颗粒进入大气。AMAT CENTURA能够生产具有广泛性能的薄膜，如优异的电性能、优异的热性能、优越的表面形态和较低的重结晶温度。应用材料CENTURA利用高功率微波、感应耦合等离子体源和多个反应性气源相结合，沉积具有较高阶梯覆盖率的薄膜和较薄的薄膜，以提高吞吐量。其多种气源允许电阻率降低、表面张力低的薄膜沉积。简而言之，CENTURA是为研究和生产先进半导体薄膜和集成电路而设计的最先进的资产。其特点包括四种低压气源、大功率微波能量、专利原位测量、低成本基板转移模型。能够生产出电性能优良、热性能优良、表面形态优越、重结晶温度低的薄膜。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA还包括一个专利的低阻力过滤器，防止危险粒子进入大气。