二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9122659 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是用于制造半导体基板或晶片的真空沉积设备。它为化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）和原子层沉积（ALD）等多种工艺应用提供了理想的环境。该系统由多个组件组成，其中包括真空加工室（主要加工室）、Showerhead沉积源、升华源和Cryo-Thin源。真空处理室的真空额定值为10-8 Torr，是发生薄膜沉积的主要工艺室。它通常封装在陶瓷材料中，这种材料提供了额外的稳定性，并包括一个原位清除口，以排出任何不需要的颗粒。它还包括加热元件、温度控制器和用于温度控制的低温氮毯子。真空处理室具有可调的高度、宽度和深度，以便进行定制的薄膜沉积。Showerhead沉积源是放置在真空处理室的沉积源，用于均匀薄膜的沉积。它由许多可单独调节的喷嘴喷嘴组成，这些喷嘴喷嘴可以精确设置，以提供所需厚度的均匀薄膜。升华源位于真空处理室和淋浴头沉积源之间，用于金属膜的沉积。该源利用加热的源板使金属汽化，然后以薄膜的形式冷凝在基板上。Cryo-Thin Source是一种沉积源，用于金属膜在基板上的均匀沉积。它位于升华源和淋浴头沉积源之间，通常以液氮供应。它由一个低温喷嘴和一个加热喷泉板组成，用来降低金属原子的温度，导致它们均匀沉积在基板上。AMAT CENTURA是一种多功能真空沉积装置，可用于生产各种具有完美膜粘附和厚度均匀的高性能半导体基板。它是一种可靠、经济高效的机器，可用于实现各种应用的优秀薄膜沉积。