二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9160522 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反应器是一种高性能、半自动的PECVD（等离子体增强化学气相沉积）设备，旨在以高速率提供成本效益的无机等离子体沉积。该工艺室包含四个在13.56MHz运行的射频源，用于在工艺室中点燃和维持微波等离子体。等离子体源能够处理低至中等压力（<10-3 torr），功率高达8 kW。利用这一通用系统，工艺工程师能够沉积氧化物、氮化物和碳化物薄膜，用于制造和研究先进的微电子器件。通过装入单晶片负载锁，腔室快速冲洗，消除了用户干预，减少了加工腔室受到污染的可能性，从而降低了拥有和操作成本。利用带波纹管密封件的减振装置，设计了一个密封室，以捕获末端真空，降低拥有成本。此外，薄膜沉积工艺使用气体输送歧管，可配置用于反应性和非反应性气体。在腔室内部，使用细角度淋浴台工具均匀地分布工艺气体，预定义的淋浴台图样确保气体均匀分布，从而在所有晶片上实现更好的工艺均匀性。AMAT CENTURA反应堆还包括一个用户友好的图形用户界面软件。此软件允许通过统一菜单检查、配置和监视过程参数,从而简化薄膜沉积过程的界面、操作和文档记录。本机主要用于半导体器件结构的制造，其薄膜沉积速率高，器件性能好，P和E质量高，零件成本低。应用材料CENTURA反应器符合FAB20、SEMI-S2标准的要求,并提供清洁、安全、高效的薄膜沉积工艺。