二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9170824 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种先进的等离子体蚀刻反应器，用于半导体领域的工业和研究应用。该反应堆是传统蚀刻和沉积工艺的一种高度通用的低成本替代品。它能够处理各种材料,并具有紧凑的设计,便于集成到工艺生产线上。AMAT CENTURA配备了先进的过程控制，提供可靠、可重复的处理结果。蚀刻反应堆的堆芯部件包括真空室、射频电源、气体分配设备和加热器压板。真空室由不锈钢构成，并配有高达10-7 Torr的可变压力能力。射频电源可提供高达250瓦的功率,能够在脉冲模式和晶体控制操作下运行。气体分配系统可容纳多达10条气体管线和两条净化管线，并能同时进行平行和连续的气体流动。加热器板由黄铜阳极和铜加热器组成，可以在蚀刻和沉积过程中进行精确的温度控制。APPLICED MATERIALS CENTURA蚀刻反应器最流行的用途包括Poly-Si模块蚀刻、SiN蚀刻、氮化物蚀刻、选择性Si蚀刻和氧化物/氮化物沉积。它能够处理范围广泛的材料，包括硅、砷化氙（GaAs）、铝、硅化物、掺硼硅、材料，以及多种金属和塑料。CENTURA能够在-20°C至+250°C的温度下进行蚀刻过程，从而可以容纳一系列不同的蚀刻和沉积过程。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA蚀刻反应器还提供多种选择，包括触摸屏监视器、集成微波/射频控制单元和视觉机。这可以对蚀刻工艺进行精确控制，并提供了以极高的精度监控和控制工艺参数的能力。此外，真空互锁工具可以与反应堆集成，以保证安全和一致的结果。总体而言，AMAT CENTURA蚀刻反应堆是一种极具成本效益、维护效率低、用途广泛的资产。其紧凑的设计和先进的工艺控制使得它成为半导体工业应用中蚀刻和沉积工艺的绝佳选择。它灵活的温度控制、可靠的结果以及广泛的材料兼容性使其成为许多工艺的理想解决方桉。APPLIED MATERIALS CENTURA提供了一种简单有效的方法,可以高效、精确地执行各种蚀刻和沉积操作。