二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9183325 待售

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ID: 9183325
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
HDP-CVD System, 8" Software version: B3.7_34 CIM: Linked Hardware configuration: Main system: (1) Centura 5200 SMIF System: (2) Asyst SMIF Interfaces Handler system: (1) HP ROBOT Process chmber: (3) FHDP Chamber ultima Hardware configuration (Subfab / Auxiliary units) (1) SMC Heat exchanger (3) ETO Generators (2) CDO (3) EBARA Pumps AAS70WN Buffer / Loadlock EBARA Pump: (2) EBARA Pumps AA20N Missing / Faulty parts / Accessories list (1) RPS (AT APP pending to repair) (1) Side match (At fab 35) 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor是一种高度通用的硅加工设备,用于制造半导体。它的灵活性使得它成为各种项目的有用工具,从小规模原型设计到高产量运行。AMAT CENTURA Reactor是一种在热处理室中处理硅基板的单步高真空反应器。这种独特的专利设计提供了一种高度均匀、低介电常数的涂层。该腔室配有石英波纹管密封、低压泵送系统,配有快速循环阀和计算机控制流量的气体输送系统。该反应堆旨在减少成本高昂的工艺步骤,同时满足行业对薄膜均匀性、可靠性和产量的要求。该反应器主要用于沉积硅化钨、硅化钛、硅化钴和其他硅化物材料。它有一个单室,高15英寸,宽2英尺,深4英尺。该腔室配有两个独立的电子微处理器控制器,几个温度和气流传感系统,以及一个腔室视图端口。温度可设定为50-1000⁰C,最高处理温度为850⁰C。反应堆有可互换的晶圆载体,容纳直径3至8英寸的晶圆尺寸。载波为每个晶片提供精确的水平和垂直位置。转动载流子提供的离心力产生表面电荷,确保得到的薄膜具有一致的均匀性和厚度。应用材料CENTURA反应堆是许多半导体工艺的宝贵工具。随着可调节参数的多功能性,包括温度、气流、压力和反应时间,这种反应堆可以提高效率,同时降低制造过程中的成本和时间。其精确的包络设计、稳健的电子设备以及精确的气体和温度控制,确保了工艺结果的一致性和精确度。
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