二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9189948 待售

AMAT/APPLICED MATERIALS CENTURA是AMAT开发的一种高性能反应堆，主要用于半导体工业的深紫外线和蚀刻工艺等光刻工艺。AMAT CENTURA平台基于多腔室、多区域配置,旨在最大限度地提高生产效率和效率。设有高温石英蚀刻、高压真空沉积、高频等离子体沉积系统。与单室系统相比,APPLIED MATERIALS CENTURA设备的多室设计可以提供更好的工艺性能。这是由于改进的温度、压力和均匀性测量，可以与多室设计。多腔室设计还提供了更高的气体吞吐量，允许更高的吞吐量速率，同时也提高了工艺的均匀性。CENTURA系统最多可管理四个独立的进程室。这样就可以提高吞吐量和使用单独的腔室同时运行不同进程的能力。每个腔室都为不同的工艺参数，如温度、压力和沉积速率配备了一个独立的控制器。它专为温度精度而设计,能够准确控制蚀刻和沉积步骤。该装置还具有真空沉积技术，如等离子体增强化学气相沉积和原子层沉积，从而能够产生更复杂的结构。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA还具有高频等离子体沉积，以减少循环时间和提高均匀性。高频等离子体对硼具有更大的耐受性，可用于减少循环时间以及使高k电介质沉积容易得多。该机还包括气体箱、主动排气、压电传感器等安全机构，对各种工艺参数进行监控。这样可以确保工具的使用安全,并且过程符合尽可能高的安全标准。该资产还设计用于最大限度地减少污染和最大化效率，用户界面使得各种参数易于监控和调整。总而言之，AMAT CENTURA是一个强大而高效的反应堆模型，具有多个腔室和区域，可提高生产率和效率，同时可改进温度、压力和均匀性测量。APPLIED MATERIALS CENTURA平台可以管理四个独立的腔室，并配有真空沉积、高频等离子体沉积和安全机制，以确保用户的安全和生产零件的质量。因此，它是任何高精度光刻工艺的理想工具。