二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9196871 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种化学气相沉积（CVD）反应器，常用于半导体工业，将高品质的保形膜沉积在基板上。CVD过程涉及将物质相，通常是气相或气相转化为固体薄膜。AMAT CENTURA特别配备了一个大型石英反应室，在给定的底物上高效地分配前体。此外,集成的加热器和相关的温度控制系统能够对工艺进行精确控制,从而在真空条件下实现层厚控制和均匀性。APPLIED MATERIALS CENTURA是一种金属有机化学气相沉积（MOCVD）反应器，允许独立的区域温度控制。这是通过多区射频偏差实现的，该偏差在100摄氏度至1000摄氏度的广泛温度范围内施加精确加热。同样，在沉积过程中保持清洁和精确的热循环。此外，它的石英加工室体积能够对MEMS（微机电系统）以及其他应用所需的薄膜进行更大的处理和沉积。CENTURA设计用于需要保形沉积薄膜的应用,包括氮化硅、多晶硅和许多其他需要均匀和可重复沉积过程的薄膜。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA允许在沉积过程中使用的材料方面具有高度的灵活性。它可以与多种前体一起使用，包括硅、的、的-硅、感应耦合等离子体（ICP）和高温金属有机化学气相沉积（HTMOCVD）所必需的。此外，AMAT CENTURA支持各种类型的沉积循环，如高压快速热化学气相沉积（FTCVD）和低压等离子体增强型化学气相沉积（PECVD）。APPLIED MATERIALS CENTURA还配备了大型石英观察窗、高温计、热线风速计等多种反馈和计量来源。这些功能使用户能够根据需要监视和调整沉积参数。CENTURA有多种尺寸可供选择,以满足特定的工业需求。此外，反应堆的配置是完全可定制的，允许特定的材料需求。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA的可靠性和成本效益使其对半导体工业特别有吸引力。