二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9207994 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9207994
晶圆大小: 8"
优质的: 2006
MCVD Systems, 8" 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA系列反应堆设计用于先进金属互连的高长宽比等离子体蚀刻,提供快速的通量和最小的热暴露。该设备采用5级淋浴头气体喷射器,提供超低分压和精确计时,以优化金属蚀刻条件。电气系统采用快速响应节流技术,能够精确控制工艺温度,从而获得所需的薄膜性能。这种柔性气体注入和电气单元的结合使得AMAT CENTURA系列成为高长宽比等离子体蚀刻的理想选择。应用材料CENTURA反应器是为先进的半导体加工而建造的,利用先进的等离子体蚀刻能力进行金属互连。在蚀刻过程方面,反应堆配备了先进的5级淋浴喷头气体喷射器,允许超低分压和精确计时。这台机器还采用快速响应节流技术,提供对工艺温度的精确控制,同时提供最佳蚀刻条件。此外,其先进的反馈控制工具能够快速稳定温度,这对于其高温能力至关重要。CENTURA系列反应堆还拥有广泛的能力,旨在最大限度地提高蚀刻性能,包括次循环锁定定时、可编程基板预热、气体剖面优化等等。这些特性的结合提供了极好的均匀性和可重复性,使得高品质产品的生产,即使在高级工艺节点上也是如此。此外,该资产的设计采用无变形墙和可调基板支架,提供无与伦比的准确性和灵活性。此外,AMAT/APPLICED MATERIALS CENTURA系列采用了质量最高的组件,从而形成了可靠、坚固的模型。它具有坚固的不锈钢框架,旨在最大限度地减少振动,并提供出色的隔热。设备先进的热循环功能还允许在广泛的工作温度范围内稳定温度,使其成为高长宽比蚀刻需求的绝佳选择。总体而言,AMAT CENTURA系列是蚀刻金属互连的可靠且先进的工具。该系统结合超精密气体注入、精密温度控制和坚固的结构,为高性能和高产蚀刻需求提供了卓越的工艺精度。其出色的功能集是为先进的半导体工艺而设计的,它允许利用最新的工艺节点和技术生产高质量的产品。
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