二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9231993 待售
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ID: 9231993
晶圆大小: 8"
PVD System, 8"
(3) Chambers
Load lock: Narrow body
HP Robot
Position A: STD AL
Position B: G12
Position C: PC II
Position F: Orienter degass
Chamber A:
Options:
Application: AL
Chamber body: Standard
Wafer heater: Standard
Cryo gate valve: 2PGV
Source assembly: 12.9"
Source adapter: 12.9"
Magnet type: Dura source
Magnet part number: 0010-20328
Chamber B:
Options:
Application
Chamber body: Wide
Wafer heater: A101
Cryo gate valve: 2PGV
Source assembly: G12
Source adapter: G12
Magnet type: G12
Magnet part number: 0010-20768
Shutter assy included
Chamber C:
Options:
Application: PC II
Chamber body: PC II
LEYBOLD 361c Turbo pump
LEYBOLD 360 Pump controller
RF Match: 0010-20524
Generator rack options: Selected option
Position A RF generator: AE MDX-20K
Position B RF generator: AE MDX-L6K
Position C RF generator: RF Generators (CPS1001, LF-10).
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种高度先进、精密且自动化的设备，能够处理先进的半导体晶圆。它是专门为处理直径300毫米（mm）的晶圆而建造的生产级反应堆。该系统配备了既高效又经济的全自动运输、舱室和装载口。AMAT CENTURA单元有三个主腔室部件。前室包括一个装载口，后室配有高能等离子体源和一个机器人臂，用于在室中放置和收集晶片。第三室，即加工室，旨在快速准确地处理每个晶片。这个腔室有高能电子源和气源的组合。整个腔室一级的处理周期在工艺腔内进行。该机还有一个大型和可配置的颗粒状气体输送工具。该资产向工艺室供应反应性气体，用于生产和控制反应副产物和杂质。可配置性允许用户从多个设定点中进行选择以获得所需的晶圆结果。该型号配备了自我诊断和光学质量控制（QC）模块，以保证质量生产。该设备还具有TEM（<100 nm）成像系统和实时电子显微镜装置，放大幅度可达3000倍。除了主室，该机还包括几个辅助系统。这些系统用于管理反应性气体的流动和控制诸如压力、温度和湿度等工具参数。该资产还配备了两台独立的冷却器，一台射频发电机和真空泵。该模型配备了高速数据采集设备，用于自动化数据收集和分析。APPLIED MATERIALS CENTURA系统具有广泛的应用,包括后端线处理和间隔器缺陷检测。该单元还提供了许多高级工艺控制选项，如原位、快速热处理和自边界蚀刻。机器的灵活性允许用户设计和定制他们的生产过程和设置，以达到最佳性能和质量。通过优化设定点和参数，该工具可以满足各种生产需求和应用，从低批量生产到大批量生产。
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