二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9236582 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种化学气相沉积（CVD）反应器，能够为薄膜沉积提供广泛的加工解决方桉。CVD反应堆利用化学来源、加热表面和其他形式的能量，例如等离子体，将多晶、无定形和在某些情况下直接结合的合金或其他化合物的薄层沉积到各种基材上。AMAT CENTURA主要用于半导体芯片的生产，能够沉积从几埃到几微米的层厚，最大沉积速率为2微米/小时。CVD反应器的腔室提供了一个真空环境，允许复杂薄膜结构的可靠生长和先进材料的沉积。APPLIED MATERIALS CENTURA使用了几种气体引入系统，包括单独的疏散和引入模块，以实现对加工和基板温度的精确控制。CVD反应堆还配备了先进的光学设备，用于对沉积过程进行精确的现场观测和测量。该系统还包括若干安全传感器、先进的灭火装置、氧化物封装机和自动化维护工具，所有这些都确保了安全和高效的操作。CENTURA CVD反应堆设计用于商业和研究用途。反应堆的腔室由耐腐蚀的不锈钢构成，周围是高绝缘的墙壁，防止热传导离开腔室，从而产生高效的过程。腔室内部由特殊的光源照明，提供了一个适合各种CVD沉积过程的环境。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA CVD反应堆先进的工艺控制资产确保了准确和可重复的沉积结果以及对气源的高效利用。基于机载的自动化过程控制模型还提供了有关过程环境的详细数据，并允许用户轻松优化沉积过程。最后，CVD反应堆配备了自动清洗设备，可减少停机时间并确保长期可靠性。此外，系统的模块化设计允许在未来方便的维护和升级。因此，AMAT CENTURA CVD反应堆是商业应用和研究需求的理想选择。