二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9251311 待售
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ID: 9251311
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
PVD System, 8"
Load lock:
Body type: Narrow
Indexer: Automated
Buffer chamber:
HEWLETT-PACKARD Robot
Metal blade
Chamber A: GAMMA II TiN (ESC)
Chamber B: GAMMA II TiN (ESC)
Chamber C: PC-II
Chamber D: Cool down
Chamber F: Oreintor degas
Generator rack 1
0190-76118 Remote AC rack
No generator rack 2
No NESLAB
Missing parts:
NESLAB0190-76118 Chiller
Cool chamber upper
0190-01893 PVD DC Power supply 3 kV
(2) Heater drivers
SBC BD
(2) Ion gauge BD
FDD
DI/O BD
AI/O BD
Robot indexer cable
(2) CRT
(2) ESC Chuck assy Ch#A, B
(2) Heater lift motors
(2) Matchers
(2) 3620-01389 Compressors
Signal cable
0150-20678 Remote rack to Ch#A pump RJ13 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to Ch#B pump RJ14 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to Buffer pump RJ11 - 50 ft
0150-20678 Remote rack to LL pump RJ12 - 50 ft
1996 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA是一种高水平的化学和物理气相沉积（CVD/PVD）反应器，是许多半导体制造设施的支柱。AMAT CENTURA能够对各种基材尺寸进行高速、高精度的薄膜沉积工艺。该设备配备了先进的自动化控制技术，能够精确的蚀刻和沉积控制，以及低温、高均匀性的薄膜沉积。反应堆的设计还采用了集成的直接耦合泵和坚固的热控制技术，以获得最佳性能。APPLIED MATERIALS CENTURA设计用于基于硅的半导体制造工艺。它主要用于生产薄膜晶体管（TFT）和集成电路（ICs），通常用于各种电子产品，如计算机和移动电话。CENTURA还用于生产半导体光电探测器和显示技术，如OLED、AMOLED等平板显示技术。反应堆采用精确的基板处理技术，由机器人和索引系统组成，允许精确、自动地处理尺寸在0.5至12英寸范围内的基板。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA提供的精确处理允许精确蚀刻和薄膜沉积,而不会对基板造成任何损坏。该单元还利用高级诊断程序包,该程序包允许实时监视流程,并在必要时自动调整流程。该机还配备了一系列先进的控制软件，可用于各种应用的精密沉积和蚀刻控制。这样可以准确控制沉积过程以及精确的蚀刻和沉积速率，以确保过程的稳定性。该软件还允许精确和可重复的层轮廓,以确保精确的薄膜沉积和蚀刻结果。AMAT CENTURA是最先进、最可靠的化学和物理气相沉积（CVD/PVD）工具。它具有各种基材尺寸的高速和高精度薄膜沉积工艺，使其成为世界上许多半导体制造设施的首选资产。该型号的精确操控和先进的控制技术使其成为市场上最可靠、最准确的系统之一。
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