二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9386335 待售

AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA
ID: 9386335
晶圆大小: 12"
Etcher, 12" (2) Minos Carina Axiom.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor是先进沉积设备和材料管理能力的结合,为半导体晶圆制造提供独特的化学气相沉积(CVD)工艺和设备解决方桉。AMAT CENTURA是一个模块化的多用途系统,能够达到92%的全晶圆制造生产率。应用材料CENTURA反应器由阴极和阳极两个主要部件组成.阴极是CVD沉积的主要来源,由气体入口、反应室和气体排气口组成。阳极充当电子源,而反应室则用于从反应物气体中生成等离子体,然后将其推进到晶圆表面。气体入口控制反应物气体的流动,允许精确控制CVD过程。CENTURA Reactor具有广泛的功能,允许生产各种芯片级器件,如互连、扩散区域、内存合金特性和其他特性。它还具有沉积铝、镍等材料薄膜的能力。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor也可以进行晶圆后处理,如化学机械抛光、扩散清洁和图样化。AMAT CENTURA Reactor的单晶片处理单元使其能够以高速单程完成CVD工艺的所有步骤,提高生产效率和生产率。SPC(统计过程控制)软件能够精确控制CVD过程,确保可重现的结果和优异的产量。APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor设计为在全自动真空机中运行,确保过程的可靠性、重复性和再现。该工具允许晶圆和多个生产站点之间有效地共享配方和工艺信息,从而提高效率和吞吐量。CENTURA反应堆还具有在溷合反应堆环境中运行的能力,允许与同一资产中的其他反应堆一起使用。AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor是一个功能强大、用途广泛的模型,提供了对CVD工艺的完全控制,使其能够生产各种复杂的设备。它是半导体器件制造商不可或缺的工具,因为它提供了出色的产量、高生产速度和低运营成本。该设备非常适合大容量晶圆制造,是芯片级设备的理想解决方桉。
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