二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9409984 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA反应器是一种针对半导体电路制造行业中广泛使用的复杂蚀刻沉积工艺的综合解决方桉。反应堆的特点是剂量率高，对各种工艺参数的精确控制，以及利用特种气体或气体组合进行沉积、蚀刻和清洗。反应堆有一个封闭的腔室，设计最大限度的均匀性和精确蚀刻。它利用了多种气体，如氧气、氮气和氙气，以控制蚀刻区的温度、压力、厚度和表面质量。加工气体可直接从反应堆储存和分配，系统最多有10条集成气体管线。例如，Argon-oxygen溷合物能够蚀刻钨和铝膜。密室设计也显着减少了颗粒沉积和污染。与其他设计相比,这是一个主要优势,因为发生的污染会对产品的均匀性和产量产生不利影响。Human Machine Interface （HMI）具有大型触摸屏,可简化流程交互,并增加较不先进的蚀刻系统无法获得的控制和准确性。除了其精密的控制外，AMAT CENTURA反应堆还具有传感器、循环器和控制器的组合。这允许将不同的气体组合用于蚀刻或沉积，并用于准确控制过程变量。先进的材料分析系统（MAS）允许快速可靠的诊断。这是实时执行的，意味着可以立即进行表征，并且可以相应地调整过程。MAS还具有内置晶圆映射功能,不仅可以测量特征的宽度,还可以测量其侧壁角度。总之，APPLIED MATERIALS CENTURA反应堆为半导体制造业的蚀刻元件提供了一个功能强大、用途广泛、精度高的系统。系统的灵敏度允许对各种参数进行精确控制，从而确保一个始终如一的高质量产品。反应堆还具有创新和先进的HMI，简化了产品的应用和特性。最后,传感器、循环器和控制器的组合实现了一个直观和一致的过程,这有助于确保一致的产量和产品质量。