二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 Mark II #9387879 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 Mark II是一种高性能反应器，旨在使薄膜沉积过程更简单、效率更高。腔室的设计结合了单晶片和批处理能力以及对过程的自动控制，以确保可靠的结果。它提供了各种各样的工艺选择，包括化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）和原子层沉积（ALD）。商会最大限度地提高吞吐量和质量，同时减少维护和工艺周期时间。它具有高效的处理体系结构，允许同时在多个基质上均匀沉积。该室由低压加工室组成，配有温度控制和沉积板。它还包括一个过程控制设备，允许用户定制过程配方和监控处理参数。商会可用来存放各种材料。其温度范围为30-1000摄氏度，能够处理挥发性和非挥发性成分。腔室还提供跨多层的均匀膜沉积，允许精确的材料分层。除了材料的均匀沉积外，商会还设有强大的清洁系统。该单元确保腔室的所有部件都没有污染物。它还包括一个Catalyst Enhanced Oxidation machine，允许在室内分解有机材料。Chamber可用于多种应用，如生产半导体、存储器和光电子。也适用于生产多种其他薄膜，如涂料、屏障、电绝缘等。腔室的多功能性允许使用者同时处理多种基板，使其成为大规模生产的理想选择。最后，该腔室是为长期操作而设计的。它具有一系列可靠性功能,例如自动晶片加载和卸载,可减少操作员的干预并简化维护程序。这样可确保最小停机时间,并确保腔室在未来数年内保持峰值状态。