二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for P5000 #9204032 待售

ID: 9204032
晶圆大小: 6"
6" Stand-alone Pneumatic manifold P/N: 0010-09263 Process: Oxide etch (CF4 / C2F6).
AMAT P5000反应器是一种用于各种半导体沉积过程的源沉积室.它是市场上用途最广泛、用户友好的沉积室之一。P5000是寻找一个可靠高效的机器优化厚度、均匀性和控制膜性能的绝佳选择。P5000先进的工艺控制提供了卓越的工艺稳定性、工艺可重复性以及对结构和组成膜性能的卓越控制。它具有一个直接驱动油门(DDT)工艺头,允许在沉积过程中基板的精确运动来回。这样可以确保整个晶片的均匀性和一致的薄膜厚度。该P5000有一个内置的气体输送设备,能够支撑多达3种不同的气体,每种气体都有自己的专用流量计。该系统允许对气体进行精确控制和溷合,从而实现精确的过程控制,从而产生高质量的薄膜。此外,P5000的设计目的是确保室内的污染水平通过其自含的过滤装置保持在最低限度,该装置在室内的任何潜在颗粒到达基板之前将其过滤掉。该P5000还提供了许多高级安全功能,包括独特的板载诊断(OBD)机器。该工具持续监控腔室和电气组件,并提供详细的反馈和实时处理数据、警报和报告。该P5000因其性能、可靠性和用户友好界面而成为线路反应堆的顶端。不仅P5000符合工艺要求,而且可以用于生长胶片以满足多种应用,这使得它成为各种用户的绝佳选择。应当指出,P5000应用于通风良好的地区,因为提高工艺效率可能会产生更多的副产品和排放。
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