二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD #9214657 待售

AMAT/APPLIED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD是一种用于溅射、蒸发、RTP、蚀刻和离子植入应用的高性能物理气相沉积（PVD）工具。该设备允许在一个自动腔室中进行多用途处理，提供无与伦比的工艺可重复性和大晶圆区域上层厚的可重复均匀性。此工具专为高级材料开发和过程分析而设计。AMAT CPI-VMO Chamber Endura PVD包括VMO Magnetron源、多区敏感器和多区隔热板作为标配。VMO Magnetron电源是由高压高频交流电源驱动的单端高速率溅射电源。VMO Magnetron源通过利用介质层在长期沉积过程中进行低输入功率操作,在晶片区域上提供均匀的溅射速率。多区感应器设计为有选择地加热或冷却目标区域，以防止反向散射或后溅射。此外，多区感应器还具有可调节的压力平衡齿轮，有助于过程控制和均匀加热。APPLICED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD还包括用于改进等离子体密封的多区隔热板以及在更宽的工艺窗口上均匀的沉积速率。多区隔热板具有可调挡板和反应堆壁保护功能，可精确控制刀具内部的沉积通量。此外，CPI-VMO Chamber Endura PVD包括一个先进的、实时的、具有多变量过程分析的自动化控制系统。实时监控和无纸化TQM单元实时提供流程性能反馈。机载强大的控制机还具有过程建模、守门员质量保证工具、自动微调优化等特点，可实时优化过程。AMAT/APPLICED MATERIALS CPI-VMO Chamber Endura PVD是为可靠性和长期性能而设计的,并在今后几年进行溅射。该工具具有独特的特性和技术组合,可快速高效地制作高质量的影片。AMAT CPI-VMO Chamber Endura PVD是那些寻求长期、可靠、节能的生产和分析需求PVD解决方桉的人的理想选择。